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什么是擴(kuò)散爐？它有什么用處？
發(fā)布時(shí)間：2020-12-07 點(diǎn)擊次數(shù)：次
擴(kuò)散爐是集成電路生產(chǎn)線前工序的重要工藝設(shè)備之一，它的主要用途是對(duì)半導(dǎo)體進(jìn)行摻雜，即在高溫條件下將摻雜材料擴(kuò)散入硅片，從而改變和控制半導(dǎo)體內(nèi)雜質(zhì)的類型、濃度和分布，以便建立起不同的電特性區(qū)域。
擴(kuò)散爐是半導(dǎo)體集成電路工藝的基礎(chǔ)設(shè)備，它與半導(dǎo)體工藝互相依存、互相促進(jìn)、共同發(fā)展。
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